高分子G是常用合成材料，可通过下列路线合成。已知F的质谱图中最大质荷比为86，其中C、H、O的原子个数之比为2：3：1，

高分子G是常用合成材料，可通过下列路线合成。已知F的质谱图中最大质荷比为86，其中C、H、O的原子个数之比为2：3：1，F在酸性条件下水解可生成碳原子数相同的两种有机物D和E。

请回答下列问题：
（1）B的分子式为，F分子含氧官能团的名称为。
（2）G的结构简式为。
（3）反应①、⑥的反应类型均是。
（4）反应②的化学方程式为。
（5）已知：

，则E的结构简式为。
（6）在F的同分异构体中，核磁共振氢谱有三个峰，三个峰的面积之比为1：1：1，任意写出其中一种满足上述条件的结构简式。

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(1)C₂ H₆ O(1分) 酯基(1分)

(2)

(1分)

(3)加成反应(1分)

(4)CH₂ BrCH₂ Br+2NaOH

HC≡CH+2NaBr+2H₂ O(2分)

(5)CH₃ CHO(1分)

(6)

或

、

(2分)

<>

1年前

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