terry_god
幼苗
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进一步的证据的重要作用静电
互动中的吸附过程来自实验
进行了一个固定的初始pH值和离子强度增加
(图7 ) .数额减少赖氨酸吸附强烈
随着越来越多的氯化钠添加到最初的赖氨酸的解决办法.
这证实,静电是一个重要的因素
在吸附在这种情况下,作为补充电解质
结果在增加,静电屏蔽和竞争
制定具有约束力的网站上硅表面.事实上,这一数额
赖氨酸吸附在最高盐浓度增加
( 0.1米)的摩尔只有4 %的吸附没有增加
盐.
的吸附能力,MCM - 41的赖氨酸下
测试的条件是低于其他一些
吸附材料,如β沸石( 0.4毫摩尔/克) [ 27 ] .
这可能是由于相对较低的酸度
硅MCM - 41表面[ 28 ] .然而,能力可以
增加补水后的吸附剂,以焙烧
增加密度silanol组[ 29 ]或修改
表面把功能组别,如磺酸
群体,有针对性的吸附氨基酸.后者
做法的另一个好处是可以修改面
针对增强的稳定性介
分子筛在水溶液中[ 19 ] .
(仅供参考)
1年前
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